ML08R003F полупроводниковые ротационные соединения

ML08R003F ротационный узел представляет собой высокоточный динамический уплотнительный узел, разработанный специально для оборудования по производству полупроводниковых пластин. Данная модель изделия относится к серии многоканальных центральных ротационных соединений, которые в основном используются в ключевом технологическом оборудовании, таком как станки для утоньшения полупроводниковых пластин и станки для химико-механической полировки (CMP), и призваны решить проблему стабильной передачи различных сред (газа, вакуума, жидкости) между высокоскоростными вращающимися компонентами и стационарными трубопроводами.

1. Основные сценарии применения
В процессах производства полупроводников решающее значение имеет глобальная планаризация поверхности пластины, причем основными процессами являются химико-механическая полировка (CMP) и утоньшение пластины. Вращающийся узел ML08R003F играет незаменимую роль в этих процессах:
Точная подача полировальной жидкости: в процессе CMP ротационный узел благодаря своей точной многоканальной конструкции стабильно и равномерно подает полировальную жидкость к высокоскоростной вращающейся полировальной головке, обеспечивая стабильный эффект полирования на поверхности пластины.
Эффективный слив отработанной жидкости: Кроме того, данное соединение обеспечивает своевременный слив отработанной жидкости после использования, предотвращая её скопление внутри полировальной головки, что позволяет избежать ухудшения качества полировки и нарушений в нормальной работе оборудования, а также поддерживать чистоту производственной среды.
Передача различных сред: Помимо жидкостей, этот соединитель также подходит для передачи различных сред, таких как вакуум, азот, воздух и т. д., что позволяет удовлетворить сложные технологические требования машин для разбавления и полировки.
2. Основные технические характеристики
ML08R003F ротационный узел была специально разработана и оптимизирована с учетом чрезвычайно высоких требований к чистоте, точности и стабильности, предъявляемых в полупроводниковой промышленности
8-канальная независимая схема: обеспечивает 8 независимых каналов для жидкостей, поддерживает одновременную подачу нескольких сред и соответствует требованиям сложных технологических контуров.
Работа с низким крутящим моментом: благодаря оптимизированной конструкции подшипников и уплотнений крутящий момент крайне невелик (<3 Н·м), что позволяет эффективно снизить нагрузку на привод, сократить энергопотребление и продлить срок службы оборудования.
Конструкция с минимальной утечкой: благодаря чрезвычайно высоким герметизирующим характеристикам уровень утечки поддерживается на очень низком уровне (<1 кПа/мин), что обеспечивает чистоту технологического газа и стабильность степени вакуума.
Высокая пылестойкость: специальная пылезащитная конструкция разработана для предотвращения загрязнения частицами, которое может возникать в процессе производства полупроводников, что повышает надежность оборудования в суровых условиях эксплуатации.
Индивидуальная конструкция: поддерживает многоканальную настройку и конструкцию со сквозными отверстиями, а также может гибко адаптироваться с учетом пространственной компоновки и конкретных технологических параметров оборудования заказчика.